如何掌控真空（kōng）鍍膜的均勻性
我們先來認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測（cè）試設備的抽真空速度，在測試過（guò）程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測（cè）試設備的（de）密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標，同時排除細（xì）小的（de）漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性（xìng）能，比如傳（chuán）動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄人簽字以及（jí）有使用（yòng）部門或工程部門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原（yuán）理的不同分為（wéi）很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相（xiàng）同。並且均（jun1）勻性這個概念（niàn）本身也會隨著鍍膜尺度和薄（báo）膜成分而有著不同的意義，下麵分別（bié）說（shuō）一下：

均勻性（xìng）主要體現在3方麵：
1、厚度（dù）上的均勻性，也可以（yǐ）理解為粗糙度，在光（guāng）學薄膜的尺度上看（也（yě）就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性（xìng）已經相當（dāng）好，可以輕鬆將（jiāng）粗糙度控（kòng）製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的（de）光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要（yào）實現10A甚至1A的表麵平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上（shàng）的均勻性：就（jiù）是（shì）說在薄膜中，化合物的原子組（zǔ）分會由於尺度過（guò）小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程不科學，那麽（me）實（shí）際表麵的組分並不（bú）是SiTiO3，而可能是（shì）其他的（de）比例，鍍的（de）膜並非是想要的膜的化學成分，這也是（shì）真空鍍膜的技術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決（jué）定（dìng）了薄膜是單晶（jīng），多晶，非晶，是真空鍍（dù）膜技術（shù）中的熱點問題。 

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