磁（cí）控（kòng）濺射技術自（zì）誕生以來，得到了較快的發展和較廣（guǎng）的應用，對其他（tā）鍍膜方法的發展產生了很大的影響。通過大量的實踐，91香蕉视频污版下载真空總（zǒng）結出這種技術的（de）優缺點，如下文所示。

　　優點：
　　1.沉積速率高，襯（chèn）底溫升低，對薄膜損（sǔn）傷小；
　　2.對於大多數材料，隻要（yào）能製造出靶材（cái），就可以實現濺射；
　　3.濺射得到的薄膜與基（jī）底結合良好；
　　4.濺射得到的薄膜純度較高，密度好，均（jun1）勻性好；
　　5.結果表明，濺射工藝具有良好的重複性，在（zài）大麵積襯底上可獲得厚度均勻的薄膜；
　　6.可以準確控製塗層厚度，通過改變參數來控製薄膜的（de）粒徑；
　　7.不同的金屬（shǔ）、合金和氧化物可以混合，同時濺射在基體上；
　　8.易於工業化。


　　但是磁控濺射也存在一些問題
　　1.該技術所使用的（de）環形磁場迫使（shǐ）次級電子圍繞環（huán）形磁場跳躍。因此，由環形磁場控製的區域是等離子體密度較高的區域。在該技術中，我們可以看到濺（jiàn）射氣體氬在（zài）這一區域發出強烈的淡藍（lán）色光芒，形成光暈。光暈（yūn）下的靶是離子轟擊比較（jiào）嚴重的部分，它會濺出一個圓形（xíng）的溝槽。環形磁場是電子運（yùn）動（dòng）的軌道，環形輝光和溝槽生動地表現了這一點（diǎn）。靶材的濺射槽一（yī）旦（dàn）穿透（tòu）靶材，整個靶材（cái）就會（huì）報廢，靶材利用率不高，一般低於40%；
　　2.等離（lí）子（zǐ）體不穩定；
　　3.由於基本的磁通量均不能通過磁性靶，所以在靶麵附近不可能產（chǎn）生外（wài）加磁場。

下一個：真空鍍膜機如何製作漸變色？