化學氣相沉積是一（yī）種製備（bèi）材料的氣相（xiàng）生長方法，它（tā）是把一種或（huò）幾種含有構成薄膜元素（sù）的化合物、單質氣體通入放置有基材（cái）的反應室，借助空間氣（qì）相化學反應在基體（tǐ）表麵上沉積固態（tài）薄膜的工（gōng）藝技術。化學（xué）氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱CVD)是（shì）反應物質在氣態條件下發生化學（xué）反應，生成（chéng）固（gù）態物質沉積在加熱的固態基體表（biǎo）麵，進而（ér）製得固體材料的工藝技（jì）術。它本質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相對的是（shì）物理氣相沉積（PVD）。