真空（kōng）鍍膜技術（shù）是真空應用技術（shù）的（de）一個重要分支，它已廣泛（fàn）地應用於光學、電子學、能源開發，理化儀器、建築機械、包裝、民用製品、表麵科學以（yǐ）及科學研究等領域中。真空（kōng）鍍膜所采用的（de）方法主要有蒸發鍍、濺射鍍（dù）、離子（zǐ）鍍、束流（liú）沉積鍍以（yǐ）及分子束外延等。此（cǐ）外還有化學氣相沉積法（fǎ）。如果從（cóng）真空鍍膜的（de）目的是為了改變物（wù）質表麵的物理、化學性能的話（huà），這一技術又（yòu）是真空表麵處理技術中的重要組成部分，其分類如表 6 所示。現就其幾個主要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光（guāng）學方麵，一塊光學玻璃（lí）或石英表麵（miàn）上鍍一層或幾層不同物質的（de）薄膜後，即可成（chéng）為高反射或無（wú）反射（即增透膜）或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的（de）吸收，而對另（lìng）一種波長（zhǎng）的透射的濾色片。高（gāo）反射膜從大口徑的天文望（wàng）遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建築（zhù）物的大窗鍍膜（mó）茉莉，都很需（xū）要（yào）。增透膜則大量用於照相和（hé）各種激（jī）光器開始、一直到新（xīn）型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用於照相機和電視攝象（xiàng）機（jī）的鏡頭上。

        在電（diàn）子學方麵真空鍍膜更占（zhàn）有（yǒu）極為重要的地位。各種規模（mó）的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等（děng）都要采用導電膜、絕緣膜（mó）和保護膜。作為製備電路的掩膜則用（yòng）到（dào）鉻膜。磁帶、磁盤（pán）、半導體激光（guāng）器，約瑟夫遜器件（jiàn）、電荷耦合器件（jiàn）（ CCD ）也都（dōu）甬（yǒng）道各種薄膜。

        在（zài）顯示器件方麵，錄象磁頭、高密度錄象（xiàng）帶以及平麵顯（xiǎn）示裝置的透明導電膜、攝像管光導（dǎo）膜、顯示管熒光屏的（de）鋁襯等也都是采用真空鍍膜法製備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳（niè）鉻，鉻或金屬陶瓷可以製造電阻（zǔ），在（zài）塑料上蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可以製造電（diàn）容（róng）器，蒸發硒可以得到靜電複印機用的（de）硒（xī）鼓、蒸發鈦酸鋇可以製造（zào）磁致伸縮的起聲元件等等。真（zhēn）空蒸發還可（kě）以用於製造（zào）超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此（cǐ）外還可（kě）以對珠寶、鍾表外（wài）殼表麵、紡（fǎng）織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采（cǎi）用濺射鍍或離（lí）子鍍對刀具、模具等製造超硬膜。近兩年（nián）內所興起的多弧離子鍍（dù）製備鈦金製品，如不鏽鋼薄板、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄杆等目前正在盛行。