濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點（diǎn），一般由靶坯和背板（bǎn）組成。

靶（bǎ）坯屬於濺射靶材的核心部分，是高（gāo）速離子束流轟擊的目標（biāo）材料。

靶坯被離子撞（zhuàng）擊後（hòu），其表麵原（yuán）子被（bèi）濺射（shè）飛散出來並（bìng）沉積於基板上製（zhì）成電子薄膜（mó）。

由於高純度金屬強度較低，因此濺射靶（bǎ）材需要在高電壓、高真空的機台環境內完成濺射（shè）過程。

超高純金屬的濺射靶坯需要與背（bèi）板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能（néng）。