微信掃一掃 關注91香蕉视频污版下载最新動態！用來進行（háng）介質（zhì）膜的濺射，如在玻璃上（shàng）鍍ITO膜之（zhī）前需鍍（dù）上一層SiO2擴散隔離層，該SiO2膜（mó）就（jiù）是采用射（shè）頻濺（jiàn）射。
通常在濺射過程（chéng）中輝光放電中的離子撞擊到陰極時，會與陰極的電（diàn）子中和，是的濺射現象可（kě）以繼續進行。
但若靶（bǎ）材（cái）本身不導電的話，離子撞擊到靶材上沒有（yǒu）電子中和，
正（zhèng）電荷（hé）一（yī）直累積，使與後來的離子排斥，這會造成取代直流電源，使可解（jiě）決（jué）此（cǐ）離子撞擊現象的停頓。