磁控濺射真空鍍膜機需要鍍膜（mó）的被稱為基片，鍍的材料被稱為（wéi）靶材。 基片與靶材同在真空腔（qiāng）中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材（cái）使表麵組分以原子團或離子形（xíng）式被蒸發出來。並且沉降在基片表（biǎo）麵，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長（zhǎng））形成薄膜。 對於濺射（shè）類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被（bèi）濺射出來（lái），並且最終沉積在基片（piàn）表麵，經曆成膜過程（chéng），最終形（xíng）成薄膜。

使（shǐ）用步驟：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開總電源。
3、開維持泵、真空計電源（yuán），真空計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一（yī）步操作。約需5分鍾。
4、開機械泵（bèng）、預抽，開渦輪分子泵電源（yuán）、並（bìng）啟動，真空計開關換（huàn）到V2位置，抽（chōu）到小於（yú）2為止，約需20分鍾。
5、觀察渦輪分子泵讀數到（dào）達250以後，關預抽，開前級泵和（hé）高（gāo）真空閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度後才能（néng）開右邊的（de）高真空表頭（tóu），觀察（chá）真空度。真空到達2×10-3以後才能打開電子槍電源。

DEF-6B操（cāo）作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電源：按電（diàn）子槍控製Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上（shàng），調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

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